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    產(chǎn)品目錄
    
                
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    日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP
    
                    
    簡(jiǎn)要描述：The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。
    
                    
      
                        
    • 更新時(shí)間：2025/6/5 5:08:21
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    • 訪  問  量：1101
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    • 產(chǎn)品型號(hào)：RIE-400iP
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    詳細(xì)介紹
    
            
    
                
    
                 
    
	
		
    
			
			
     
    

			
    

			
     
    
			    		
		
    
		
    
			
			
    The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。
    

			

    
			該系統(tǒng)專為研發(fā)和中試生產(chǎn)客戶設(shè)計(jì)，需要高規(guī)格，多功能和強(qiáng)大的系統(tǒng)，具有出色的工藝技術(shù)。
    

			
     
    
			    		
		
    
	    

    


     
    


     
    


    
	
		
    
			
			
    系統(tǒng)配置
    

			

    
			●  配備先進(jìn)的ICP源：HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil) 可
    
			    實(shí)現(xiàn)高度均勻且精確的蝕刻
    
			●  獨(dú)創(chuàng)的ESC (靜電卡盤)提高了導(dǎo)熱性，可使晶圓片的溫度
    
			    更為均勻
    
			●  高速排氣系統(tǒng)且占地面積小
    
			●  強(qiáng)化腔室設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性
    
			●  優(yōu)秀的工藝庫和技術(shù)
    
			●  高達(dá)ø4“(100毫米)晶圓
    
			●  人性化的操作界面
    
			●  易于維護(hù)
    

			
     
    

			
     應(yīng)用場(chǎng)景 
    
			    		
			
			
    尺寸
    

			
     
    

			
    

			
     
    

			
     
    
			    		
		
    
		
    
			
			
    

			
    GaN Power Device
    
			    		
			
			
    

			
    GaAs VCSEL
    
			    		
			
			
     
    

			
    

			
    InP Laser
    
			(Cone shaped ICP Coil)
    
			    		
		
    
		
    
			
			
     
    

			
    設(shè)備參數(shù)
    

			
    

			
     
    

			
     
    
			    		
			
			
     
    

			
    常務(wù)需求
    

			
    

			
     
    

			
     
    

			
     
    

			
     
    

			
     
    

			
     
    
			    		
		
    
	    

    


     
    


    

                
    
                
     

    
            
    
            
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